双束聚焦离子束样品制备(Dual-beam FIB)
iST宜特建置业界相当高阶FEI Helios 450S机台及FEI Helios 600机台，采三班制24小时运作，提供客户快速交期的高质量服务。
Dual-beam FIB机台能在以离子束切割样品时，同时用电子束对断面进行观察。宜特所建置的业界特高阶机台，具备超高分辨率的离子束及电子束。能针对样品中的微细结构进行奈米尺度的定位及观察，大幅提升失效分析及TEM样品制备的成功率与影像质量。
iST宜特建置之聚焦离子束与电子束双束系统，其硬件基本规格如下：
机型 : FEI Helios Series
Sample dimension: 75 – 150mm
Specimen stage: 5 - axis motorized stage
Working distance: ~4mm
双束型聚焦离子束显微镜的应用，主要以下列所述为主：
半导体组件故障分析(能力可达20nm高阶制程)
半导体生产线制程异常分析
磊晶与薄膜结构分析
电位对比测试
穿透式电子显微镜试片制作
奈米级结构制作
关于宜特：
iST始创于1994年的中国台湾，主要以提供集成电路行业可靠性验证、失效分析、材料分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海，全球现已有7座实验室12个服务据点，目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。
免责声明： 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息，均来源于其对应的商铺，信息的真实性、准确性和合法性由该信息的来源商铺所属企业完全负责。本站对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题，请及时与本网联系，我们将核实后进行删除，本网站对此声明具有最终解释权。
友情提醒： 建议您在购买相关产品前务必确认资质及产品质量，过低的价格有可能是虚假信息，请谨慎对待，谨防上当受骗。
